BM8-III感應耦合等離子（ICP）刻蝕及等離子沉積處理系統
產品介紹：感應耦合等離子（ICP）刻蝕及沉積、深反應離子刻蝕（DRIE）及低溫等離子體增強化學氣相沉積（PEVCD）、
BM8-III 感應耦合等離子（ICP）刻蝕及沉積系統
高性能深反應離子刻蝕（DRIE）及低溫等離子體增強化學氣相沉積（PEVCD）等離子處理系統
BM8-III感應耦合等離子（ICP）處理系統是一款全新定義深反應離子刻蝕（DRIE）及低溫低損傷 等離子體增強化學氣相沉積（PEVCD）等離子處理新概念的等離子處理系統。
該感應耦合等離子（ICP）刻蝕及等離子沉積處理系統基于模塊化設計制造，采用一款通用的真空處理艙及機柜。等離子處理系統采用感應耦合等離子（ICP）電極及底部沉積電極模塊化設計理念，方便整體感應耦合等離子（ICP）刻蝕及沉積系統的組裝及配置。
該感應耦合等離子（ICP）刻蝕及等離子沉積處理系統帶給用戶方便操作，提供多種等離子處理工藝、方便維護及性價比高的系統比業內其它感應耦合等離子（ICP）刻蝕及等離子沉積處理系統更具競爭力。
感應耦合等離子（ICP）刻蝕及等離子沉積處理系統主要性能簡介
等離子工藝處理的研發需要多功能且可靠的等離子處理設備。為了滿足等離子研究日新月異的要求，用戶選購的系統設備滿足最大范圍的等離子工藝參數需要、工藝驗證需要極其高的可重復性、必須方便改造用于新的等離子工藝需要。我們相信BM8-III感應耦合等離子（ICP）蝕刻/沉積等離子系統滿足這些非常苛刻的要求。
BM8-III是一款用于研究、工藝開發及其小批量生產的感應耦合等離子（ICP）刻蝕及等離子沉積處理系統工具，用于最大八英寸（203mm）基片的精密等離子刻蝕及沉積。該感應耦合等離子（ICP）刻蝕及等離子沉積處理系統也可以容納處理多塊晶圓片。
在設計BM8-III感應耦合等離子（ICP）蝕刻/沉積等離子系統之初，主導指示就是創造一款融合高質量、可靠、重復性及其用于生產系統的工藝控制能力為一體的等離子系統；同時極大的降低主機成本、維護成本及占地面積小等要求。
BM8-III感應耦合等離子（ICP）處理系統具有獨特的機體結構和電極設計，方便安裝在層流模塊中或是超凈間。感應耦合等離子（ICP）處理系統的建造采用高質量認可的部件、模塊化裝配、多功能真空艙體及其電極設計、結構緊湊、自動化及業內認可工藝程序使得BM8-III感應耦合等離子（ICP）處理系統成為工藝工程師首選干法設備。
感應耦合等離子（ICP）處理系統特性
• 一體式真空艙體構造
• 1000W@13.56MHz，射頻感應耦合等離子（ICP）電源
• 600W@13.56 MHz 射頻 偏壓電源
• Auto RF matching 自動射頻匹配器
• 下游壓力控制
• 基于Windows操作系統軟件的電腦控制
• 多款真空泵浦系統選配：機械泵及渦輪增壓泵浦用于蝕刻；機械泵浦配備羅茨風機用于沉積；
• 業內認可的部件
• 認證的工藝程序
• 終點探測檢測（選配） 感應耦合等離子（ICP）處理系統應用
• 深反應離子刻蝕（DRIE）
• 低損傷高速蝕刻速率
• 亞微米級蝕刻
• SiO2 及 Si3N4的低溫、低損傷等離子體增強化學氣相沉積（PEVCD）
• 聚酰亞胺蝕刻、鈍化層蝕刻（Polyimide etching 、Passivation etching）
• 碳納米管沉積
感應耦合等離子（ICP）刻蝕及等離子沉積處理系統應用
基于感應耦合等離子（ICP）刻蝕及等離子沉積系統建造的高質量處理模塊，BM8-III滿足廣泛的等離子處理工藝條件，無論是復雜的亞微米級反應離子刻蝕 （RIE）還是低溫下的高質等離子體增強化學氣相沉積PEVCD薄膜的沉積。
基與眾多客戶群的緊密協作，我們開發出業內認可的工藝程序，保證系統滿足用戶所需。用于生產制造的系統設備均采用最高質量的部件，保證我們的系統提供最大可能的正常運行時間、 可靠性、重復性及耐用性。
感應耦合等離子（ICP）刻蝕及等離子沉積處理系統技術規格
BM8-III感應耦合等離子（ICP）刻蝕及等離子沉積處理系統的廣泛使用得益于其高性價比、多功能設計模塊、提供其他同類感應耦合等離子（ICP）刻蝕及等離子沉積處理系統沒有的工藝優勢。這些包括層流安裝、安裝占地面積小，多款電極配置，及其最大可滿足8英寸基片處理等。
感應耦合等離子（ICP）刻蝕及等離子沉積處理系統基本模塊
BM8-III感應耦合等離子（ICP）刻蝕及等離子沉積處理系統的基本部件包括一款基于Windows的PC控制器及其菜單存儲、數碼質量流量控制的四路通道控制（最大可擴展至六通道）、溫度補償式電容壓力計用于測量工藝真空度、100毫米真空通道用于最大工藝氣體電導、KF或ISO標準管件便于維護；及其它工藝及服務特性。工藝氣體導管未不銹鋼操作，配備VCE連接件。
感應耦合等離子（ICP）刻蝕及等離子沉積處理系統真空處理艙
BM8-III感應耦合等離子（ICP）刻蝕及等離子沉積處理系統的真空處理艙采用整塊陽極氧化鋁合金建造成一體式設計。感應耦合等離子（ICP）刻蝕、等離子體增強化學氣相沉積（PEVCD）系統均采用同樣的真空處理艙設計。真空處理艙上部部包括一個感應耦合等離子（ICP）線圈及陶瓷窗；真空艙下部包括基片電極，真空泵浦接口及氣體必要的真空閥及其真空監控設備。自動升降臺抬舉真空艙上部便于接近底部電極。
感應耦合等離子（ICP）刻蝕及等離子沉積處理系統電極配置
感應耦合等離子（ICP）線圈及陶瓷窗同樣用于感應耦合等離子（ICP）蝕刻機沉積系統之中。
感應耦合等離子（ICP）蝕刻電極特別為低真空范圍的最佳等離子性能設計。
不銹鋼材質底部電極通過可選配冷卻循環器來控制溫度。感應耦合等離子（ICP）線圈陽極采用暗區屏障設計，使等離子在兩塊電極之間產生。
感應耦合等離子（ ICP）及等離子體增強化學氣相沉積（ PECVD） 底部電極采用類似的設計，電極最大可耐400℃高溫。
感應耦合等離子（ICP）刻蝕及等離子沉積處理系統電源
1000W@13.56MHz射頻電源給電感應耦合等離子（ICP）線圈，在低等離子電位下產生等離子密度高達5 x 1011 eV/cm3（氬氣等離子），而第二套600W@13.56MHz 射頻電源給電基片電極產生射頻偏壓。所有的電源采用固態、風冷式，配備自動匹配器。這樣離子能量及離子密度可以分別控制。感應耦合等離子（ICP）線圈位于真空艙外部，由陶瓷窗隔離；感應耦合等離子（ICP）線圈處于大氣壓下，而非等離子產生環境中。
感應耦合等離子（ICP）刻蝕及等離子沉積處理系統工藝處理真空泵浦
根據用戶的工藝需要，BM8-III感應耦合等離子（ICP）刻蝕及等離子沉積處理系統配備機械泵、機械泵及渦輪分子泵，或是帶魯氏鼓風機的機械泵。也可根據所需真空處理級別配備不同尺寸大小的真空泵浦。
感應耦合等離子（ICP）刻蝕及等離子沉積處理系統壓力控制
下游壓力控制提供了更加精密的工藝控制。閉環式壓力控制系統集成在真空處理艙和工藝處理真空泵浦之間。該控制系統包括一套100mm伺服電磁閥及壓力控制器與位于真空處理艙內的電容壓力計相連接；提供了工藝壓力控制的完全自動化控制。
感應耦合等離子（ICP）刻蝕及等離子沉積處理系統控制器
控制器采用電腦控制整個系統。基于Windows的控制軟件采用多屏幕顯示系統設備控制、數據記錄、稱呼設定及存儲，系統連鎖應需配備。
感應耦合等離子（ICP）刻蝕及等離子沉積處理系統可在自動或手動模式下運行。
感應耦合等離子（ICP）刻蝕及等離子沉積處理系統選配件
為了增強系統的工藝處理能力，BM8-III感應耦合等離子（ICP）系統提供廣泛的工藝處理選項，包括終點檢測、水冷器（用于冷卻電極）、油霧分離器及吹掃系統、下周壓力控制、硬質陽極氧化真空艙。工藝廢氣處理系統也可提供。
感應耦合等離子（ICP）刻蝕及等離子沉積處理系統外觀尺寸
寬: 118cm
深: 95cm
機柜高度: 91cm
整機高度: 137cm
重量: 約227公斤
感應耦合等離子（ICP）刻蝕及等離子沉積處理系統安裝條件
感應耦合等離子（ICP）刻蝕及等離子沉積處理系統主機 220V, 50/60Hz, 20A
感應耦合等離子（ICP）刻蝕及等離子沉積處理系統真空泵浦: 220V, 60Hz, 10 Amps （僅限機械真空泵浦） 220V, 50Hz, 5 Amps
冷卻水:用于電極冷卻5.5L/min （20℃）
大氣: 用于電磁閥控制 （0.55MPa）
氮氣：N2: 0.1~0.14MPa （用于真空處理艙吹掃））
氣源: 等離子處理工藝氣體, VCR 管件
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Anti-HHV11 ICP22抗體,單純皰疹病毒1型轉錄調節因子ICP22抗體
德國MERCKICP標準溶液
大鼠I型前膠原羧基端原肽( PICP)ELISA試劑盒
大鼠I型前膠原羧基端原肽( PICP)elisa試劑盒首選上海戶實,上海戶實是一家致力于提供優質可靠的ELISA試劑盒及提供科研實驗解決方案的生物公司，公司生產和銷售的ELISA試劑盒種類包括細胞凋亡ELISA試劑盒，心肌梗塞檢測ELSIA試劑盒，血栓與止血ELISA試劑盒，腫瘤標志物檢測試劑盒，骨代謝ELISA試劑盒，活性多肽ELISA試劑盒，胰島素ELISA試劑盒，免疫組化檢測ELISA試劑盒等。公司客戶遍布各大高校，醫院，科研實驗室，凡從我司選購的ELISA試劑盒，上海戶實提供免費周到的代測服務，保證結果讓您滿意，并提供2個月免費退換貨服務（非人為因素），針對新老客戶推出先票隨貨，后付款的貼心服務，讓您的實驗更方便，快捷，省時！具體詳情請致電公司銷售！
大鼠I型前膠原羧基端原肽( PICP)ELISA試劑盒產品詳情如下:
英文名稱：Rat PICP (Procollagen I C-terminal Propeptide) ELISA Kit
| ELISA試劑盒規格 | 48T | 96T | 保存 |
| 酶標包被板 | 1X48 | 1X96 | 4℃/-20℃ |
| 標準品 | 0.5ml X 1瓶 | 0.5ml X 1瓶 | 2℃-8℃ |
| 標準品稀釋液 | 1.5ml X 1瓶 | 1.5ml X 1瓶 | 2℃-8℃ |
| 酶標試劑 | 3ml X 1瓶 | 3ml X 1瓶 | 2℃-8℃ |
| 樣品稀釋液 | 3ml X 1瓶 | 3ml X 1瓶 | 2℃-8℃ |
| 顯色劑A液 | 3ml X 1瓶 | 3ml X 1瓶 | 2℃-8℃ |
| 顯色劑B液 | 3ml X 1瓶 | 3ml X 1瓶 | 2℃-8℃ |
| 終止液 | 3ml X 1瓶 | 3ml X 1瓶 | 2℃-8℃ |
| 25倍濃縮洗滌液 | 20ml X 1瓶 | 20ml X 1瓶 | 2℃-8℃ |
| 封板膜 | 2片 | 2片 |
|
| 密封袋 | 1個 | 1個 |
|
| 說明書 | 1份 | 1份 |
|
產品保存及期限：2℃-8℃保存6個月
大鼠I型前膠原羧基端原肽( PICP)ELISA試劑盒是用于測定血清，血漿及相關液體樣本中總待測物質的含量。
本試劑盒應用酶聯免疫ELISA檢測法測定標本中待測物質水平，用純化的待測物質抗體包被微孔板，制成固相抗體，往包被單抗的微孔中依次加入代測物質，再與HRP標記的待測物質抗體結合，形成抗體-抗原-酶標抗體復合物，經過徹底洗滌后加底物TMB顯色。TMB在HRP酶的催化下變成藍色，并在酸的作用下轉化成最終的黃色，顏色的深淺和樣品中的待測物質呈正相關。用酶標儀在450nm波長下測定吸光度（OD值），通過標準曲線計算樣品中待測物質濃度。
大鼠I型前膠原羧基端原肽( PICP)ELISA試劑盒數值計算：
以標準物的濃度為橫坐標，OD值為縱坐標，在坐標紙上繪出標準曲線，根據樣品的OD值由標準曲線查出相應的濃度；再乘以稀釋倍數；或用標準物的濃度與OD值計算出標準曲線的直線回歸方程式，將樣品的OD值代入方程式，計算出樣品濃度，再乘以稀釋倍數，即為樣品的實際濃度。
大鼠I型前膠原羧基端原肽( PICP)ELISA試劑盒操作步驟示意圖：
大鼠I型前膠原羧基端原肽( PICP)ELISA試劑盒注意事項：
1．試劑盒從冷藏環境中取出應在室溫平衡15-30分鐘后方可使用，酶標包被板開封后如未用完，板條應裝入密封袋中保存。2．濃洗滌液可能會有結晶析出，稀釋時可在水浴中加溫助溶，洗滌不影響結果。3．各步加樣均應使用加樣器，并經常校對其準確性，以避免試驗誤差。一次加樣時間最好控制在5分鐘內，如標本數量多，推薦使用排槍加樣。4．請每次測定的同時做標準曲線，最好做復孔。如標本中待測物質含量過高（樣本OD值大于標準品孔第一孔的OD值），請先用樣品稀釋液稀釋一定倍數（n 倍）后再測定，計算時請最后乘以總稀釋倍數（×n×5）。5．封板膜只限一次性使用，以避免交叉污染，底物請避光保存。6．嚴格按照說明書的操作進行，試驗結果判定必須以酶標儀讀數為準。7．所有樣品，洗滌液和各種廢棄物都應按傳染物處理。8．如與英文說明書有異，以英文說明書為準。
公司物流服務說明：
1、絕大部分產品備有現貨，一般情況下都能訂貨當日發貨。2、部分非常用產品，需提前1－2日預訂，訂購進口ELISA試劑盒，則需要提前1-2周時間預訂。3、部分產品價格會因貨期、批次等因素發生變化，若有變動以訂貨當日最新報價為準。4、每日訂單截止時間為17：30整，因超過截止時間造成當日不能發貨的將于次日安排發貨。5、訂貨，咨詢請致電我司銷售人員或QQ線上報價，如需產品圖片，電子檔中英文說明書等請留下您的EMAIL郵箱，微信，QQ等聯系方式
公司售后服務：
1、上海戶實所有的ELISA試劑盒均可免費代測，全程ELISA實驗技術指導，免費代做實驗，保證售前，售中，售后始終如一的提供最用心的服務，新老客戶均可享受優惠折扣服務。
2、根據客戶要求免費提供免費技術支持，并全程跟蹤實驗進度，及時解決您在實驗上碰到問題和情況，現鄭重承諾凡購買我司產品客戶，30天內可享受免費退換貨（非人為因素）服務。
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豬XI型膠原α1(COL11α1)ELISA試劑盒 Porcine COL11α1 (Collagen Type XI Alpha 1) ELISA Kit
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上海戶實愿意做您在實驗中可靠的伙伴，風雨無阻，讓我們攜手共進，共創輝煌！
ICP-HG-8600高效ICP電感耦合等離子體發射光譜儀微量元素分析儀金屬檢測儀@新聞
產品簡介:ICP-HG-8600作為大型精密無機分析儀器，它集光、機、電、計算機、分析技術于一體的高新技術產品，具有測試速度快、測量范圍寬、分析結果準確可靠等特點。由于采用了計算機技術，儀器的智能化、屏幕顯示的圖、文及數據的采集、處理等都達到了目前國內先進水平，是諸多行業理想的分析儀器。產品特點:一、儀器整機主要性能參數：
1、波長范圍：190～500nm（3600L/mm光柵）或190～800nm（2400L/mm光柵）；
2、分辨率： 0.006nm（3600L/mm光柵）或0.01nm（2400L/mm光柵）；
3、波長示值誤差和重復性：波長示值誤差≤0.02nm，重復性≤0.003nm；
4、掃描步距：0.0004nm；
5、重復性：RSD≤1.0%；
6、穩定性：RSD≤1.5%；
7、檢出限：ppb級；
8、分析元素范圍：70余種金屬與非金屬元素；
9、線性范圍：7個數量級以上，且自吸效應極低；
10、分析速度：每分鐘掃描25個元素以上；
11、等級證書：國家計量器具型式許可A級（且遠優于A級）。
二、儀器各部件詳細參數：
射頻發生器（RF）
（1）電路類型：電感反饋自激式振蕩電路、同軸電纜輸出、匹配調諧、取功率反饋信號，進行閉環自動控制；
（2）工作頻率：40.68MHz±0.05%；
（3）頻率穩定性：≤0.05%；
（4）輸出功率：800～1200W；
（5）輸出功率穩定性：≤0.2%；
（6）電磁場泄漏射強度：距機身20cm 處，電場強度：E＜2 V / m。
進樣裝置
（1）輸出工作線圈：內徑25mm、3匝；
（2）炬管：三同心型，外徑20mm的石英炬管；
（3）同軸型噴霧器：外徑6mm；
（4）雙筒型霧室：外徑35mm；
（5）觀測位置：縱向觀察高低和橫向觀察前后，可通過軟件直觀地調為最佳；
（6）氬氣流量計規格和載氣壓力表規格：
1、等離子氣流量計：(100～1000)L/h (1.6～16L/min)；
2、輔助氣流量計：(10～100)L/h (0.16～1.66L/min)；
3、載氣流量計：(10～100)L/h (0.16～1.66L/min)；
4、載氣穩壓閥：(0～0.4Mpa)L/h；
5、冷卻水：水溫：15～25℃ 流量＞5L/min 水壓＞0.1Mpa 冷卻水：電阻率＞1MΩ。
分光器
（1）光路：Czerny－Turner；
（2）焦距：1000mm；
（3）光柵規格：離子刻蝕全息光柵；刻線密度3600L/mm，刻線面積：80×110mm(或刻線密度2400L/mm，刻線面積：80×110mm)；
（4）線色散率倒數：0.26nm/mm；
（5）分辨率：≤0.006nm全波段；
（6）掃描波長范圍：190～500nm，3600L/mm光柵；190～800nm，2400 L/mm光柵；
（7）掃描步距：0.0004nm；
（8）出射、入射狹縫：20μm×25μm；
（9）反射鏡規格：（78×105×16）mm；
（10）透鏡：φ30，1:1成像；
（11）反射鏡規格：凹型；
（12）分光器恒溫裝置：26℃±1℃。
測光裝置
（1）光電倍增管規格：R212UH或R928；
（2）光電倍增管負高壓：-200～-1000V，自動調節，穩定性＜0.05%；
（3）光電倍增管電流測量范圍：10-4～10-12A；
（4）信號采集為V/F交換：1mV對應100Hz；
（5）采樣電路：使用國外高精密度運算放大器，使儀器的靈敏度和精確度大大提高；
（6）儀器數據采集：通過串口與電腦連接，從而簡化了電路使連接更加便捷；
（7）測光方式：單、多元素順序測量。
操作軟件：
（1）操作系統：Windows XP 操作平臺；
（2）測定波長數：任意選擇；
（3）分析速度：每分鐘25個元素以上；
（4）數據庫：譜線庫11萬條以上；
（5）多窗口：在測量完一次結果后可以在顯示窗口保留上次結果同時、測量下一樣品；
（6）標準加入法：軟件要有標準加入法，以便在不同條件和應用中下使用；
（7）分析模式：軟件默認最佳分析模式，擁有儀器診斷、譜圖分析及幾種測量方式和幾種積分模式，單位任選等多種功能；
（8）歷史數據庫：在歷史數據庫中，可以同時可選擇性地打印想要打印的批次分析結果；
（9）數據輸出：軟件支持激光打印機打印分析結果。
應用領域：廣泛應用于稀土分析、貴金屬分析、有色金屬、合金材料、電子產品、醫藥衛生、冶金、地質、土壤、石油、化工、商檢、環保等部門和釹鐵硼、硅、硅鐵、鎢、鉬等，從超微量到常量的定性或定量分析。公司介紹：惠州市華高儀器設備有限公司成立于2012年，是專業經營進口、國產高端品牌儀器設備的高科技含量的民營企業。公司致力于新技術開發、創新，不斷推出適用于電子市場需求的測試儀器、設備。
經營主要產品：XRF測試儀、RoHS檢測儀、x射線儀器、色譜、質譜、光譜、表面分析儀、直讀光譜儀、元素分析儀、無損檢測儀、三坐標測量系統、TVOC檢測儀、氣體分析儀、滴水角測試儀、測色儀、環境試驗設備、玩具安全測試儀等。儀器儀表
經營主要品牌：SPECTRO、賽默飛世爾、日本日立、海克斯康、華唯計量等在中國區的授權代理商，以及日本島津、瑞士萬通、等知名品牌在華南主要經銷商。日本三豐，奧林巴斯、蔡司、美國博曼、美國伊諾斯、牛津、德國斯派克、日本美能達、美國Interscan、思瑞測量、七海測量、西安力德、愛斯佩克惠州特約經銷商。
公司本著專業為上、服務為先、誠信為本、踏實敬業、載譽天下的經營理念。在已有成績的基礎上，近年來一直不斷拓寬產品線，提高銷售人員素質，建設完善售后服務團隊，致力于將國內外最好的產品推薦給用戶，并把客戶的滿意度作為公司的最高榮譽；公司經過數年耕耘，已經擁有數量眾多的用戶。熱忱歡迎廣大新老客戶前來洽購、指導！
華科易通HK-8100型ICP光譜儀
華科易通HK-8100型ICP光譜儀整機技術指標：(1) 分析速度：一分鐘分析最快可掃描約30個元素(2) 波長范圍： 波長掃描范圍180~500nm(可選180~800nm)、方式為正弦桿，由計算機控制的脈沖馬達驅動，最小掃描步距0.0004nm(3) 波長示值誤差和重復性：波長示值誤差：± 0.05nm 重復性<= 0.005nm(4) 相關系數 >0.9998(5) 精密度：高 相對標準偏差 RSD<1.0%(6) 穩定性： 相對標準偏差 RSD<1.5%(7) 測量范圍： 超微量到常量(8) 檢出限低： ppb（ug/L）級(部分元素檢出限見附錄一)(9) 分析元素多：可對72種金屬元素和部分非金屬元素進行定量或定性分析儀器各部件詳細參數：
射頻發生器（RF）
（1）電路類型：電感反饋自激式振蕩電路、同軸電纜輸出、匹配調諧、取功率反饋信號，進行閉環自動控制；
（2）工作頻率：40.68MHz±0.05%；
（3）頻率穩定性：≤0.05%；
（4）輸出功率：800～1200W；
（5）輸出功率穩定性：≤0.2%；
（6）電磁場泄漏射強度：距機身20cm 處，電場強度：E＜2 V / m。
進樣裝置
（1）輸出工作線圈：內徑25mm、3匝；
（2）炬管：三同心型，外徑20mm的石英炬管；
（3）同軸型噴霧器：外徑6mm；
（4）雙筒型霧室：外徑35mm；
（5）觀測位置：縱向觀察高低和橫向觀察前后，可通過軟件直觀地調為最佳；
（6）氬氣流量計規格和載氣壓力表規格：
1、等離子氣流量計：(100～1000)L/h (1.6～16L/min)；
2、輔助氣流量計：(10～100)L/h (0.16～1.66L/min)；
3、載氣流量計：(10～100)L/h (0.16～1.66L/min)；
4、載氣穩壓閥：(0～0.4Mpa)L/h；
5、冷卻水：水溫：15～25℃ 流量＞5L/min 水壓＞0.1Mpa 冷卻水：電阻率＞1MΩ。
分光器
（1）光路：Czerny－Turner；
（2）焦距：1000mm；
（3）光柵規格：離子刻蝕全息光柵；刻線密度3600L/mm，刻線面積：80×110mm(或刻線密度2400L/mm，刻線面積：80×110mm)；
（4）線色散率倒數：0.26nm/mm；
（5）分辨率：≤0.006nm全波段；
（6）掃描波長范圍：190～500nm，3600L/mm光柵；190～800nm，2400 L/mm光柵；
（7）掃描步距：0.0004nm；
（8）出射、入射狹縫：20μm×25μm；
（9）反射鏡規格：（78×105×16）mm；
（10）透鏡：φ30，1:1成像；
（11）反射鏡規格：凹型；
（12）分光器恒溫裝置：26℃±1℃。
測光裝置
（1）光電倍增管規格：R212UH或R928；
（2）光電倍增管負高壓：-200～-1000V，自動調節，穩定性＜0.05%；
（3）光電倍增管電流測量范圍：10-4～10-12A；
（4）信號采集為V/F交換：1mV對應100Hz；
（5）采樣電路：使用國外高精密度運算放大器，使儀器的靈敏度和精確度大大提高；
（6）儀器數據采集：通過串口與電腦連接，從而簡化了電路使連接更加便捷；
（7）測光方式：單、多元素順序測量。
操作軟件：
（1）操作系統：Windows XP 操作平臺；
（2）測定波長數：任意選擇；
（3）分析速度：每分鐘25個元素以上；
（4）數據庫：譜線庫11萬條以上；
（5）多窗口：在測量完一次結果后可以在顯示窗口保留上次結果同時、測量下一樣品；
（6）標準加入法：軟件要有標準加入法，以便在不同條件和應用中下使用；
（7）分析模式：軟件默認最佳分析模式，擁有儀器診斷、譜圖分析及幾種測量方式和幾種積分模式，單位任選等多種功能；
（8）歷史數據庫：在歷史數據庫中，可以同時可選擇性地打印想要打印的批次分析結果；
（9）數據輸出：軟件支持激光打印機打印分析結果。
|
| 檢出限 | 波長 |
| 檢出限 | 波長 |
| 檢出限 | 波長 |
| 檢出限 | 波長 |
| Ag | 0.003 | 328.07 | Al | 0.008 | 309.27 | As | 0.03 | 189.04 | Au | 0.008 | 242.80 |
| B | 0.002 | 249.77 | Ba | 0.002 | 455.40 | Be | 0.001 | 313.04 | Bi | 0.04 | 223.06 |
| Ca | 0.002 | 393.37 | Cd | 0.002 | 214.44 | Ce | 0.02 | 413.76 | Co | 0.004 | 238.62 |
| Cr | 0.003 | 205.55 | Cu | 0.002 | 324.75 | Dy | 0.008 | 353.17 | Er | 0.005 | 337.27 |
| Eu | 0.001 | 381.97 | Fe | 0.002 | 238.20 | Ga | 0.02 | 294.36 | Gd | 0.007 | 342.25 |
| Ge | 0.02 | 209.43 | Hf | 0.008 | 277.34 | Hg | 0.02 | 194.23 | Ho | 0.004 | 345.60 |
| I | 0.1 | 206.24 | In | 0.04 | 230.61 | Ir | 0.02 | 224.27 | La | 0.002 | 394.91 |
| Li | 0.002 | 470.78 | Lu | 0.005 | 261.54 | Mg | 0.005 | 279.55 | Mn | 0.005 | 257.61 |
| Mo | 0.004 | 202.03 | Nb | 0.005 | 309.42 | Nd | 0.03 | 401.23 | Ni | 0.008 | 221.65 |
| Os | 0.004 | 225.59 | P | 0.05 | 213.62 | Pb | 0.03 | 220.35 | Pd | 0.02 | 340.46 |
| Pr | 0.02 | 390.84 | Pt | 0.02 | 214.42 | Rb | 0.3 | 780.02 | Re | 0.006 | 221.43 |
| Rh | 0.02 | 233.48 | Ru | 0.02 | 240.27 | Sb | 0.03 | 206.83 | Sc | 0.008 | 361.38 |
| Se | 0.06 | 196.09 | Si | 0.008 | 251.61 | Sm | 0.02 | 359.26 | Sn | 0.02 | 289.98 |
| Sr | 0.008 | 407.77 | Ta | 0.03 | 226.23 | Tb | 0.02 | 350.92 | Te | 0.04 | 214.28 |
| Th | 0.04 | 283.73 | Ti | 0.002 | 334.94 | Tl | 0.04 | 190.86 | Tm | 0.004 | 313.13 |
| U | 0.08 | 385.96 | V | 0.003 | 309.31 | W | 0.015 | 207.91 | Y | 0.001 | 371.03 |
| Yb | 0.001 | 328.94 | Zn | 0.002 | 202.55 | Zr | 0.002 | 343.82 |
|
|
電感耦合等離子發射光譜儀HK-2000ICP
ICP RIEICP等離子 RIE反應離子刻蝕機
德國SENTECH公司 ICP等離子/ RIE反應離子刻蝕機－－－－-上海/蘇州/無錫/南京/天津/北京/武漢/西安/杭州/濟南/廣州
SENTECH儀器（德國）有限公司研發、制造和銷售先進的薄膜測量儀器（光譜橢偏儀、激光橢偏儀、反射膜厚儀）、光伏測量儀器（在線和離線測量工具）和等離子工藝設備（等離子刻蝕機、等離子沉積系統、原子層沉積系統、用戶定制多腔系統）。 儀器廣泛應用于微電子、光電、納米技術、LED、平板顯示、材料、有機電子、光伏、玻璃鍍膜、生物學、生命科學、等研發領域。
NOVTEC寓意“科技創新”，即諾威特測控科技有限公司，在德國、日本設有代表處，多年來致力于將世界著名品牌的高科技產品帶給中國及亞洲的廣大用戶，并為客戶提供完善的售后服務，協助他們提高生產技術水平、競爭力及增加盈利，專業從事工業測量與測試產品的銷售與研發，擁有產品研發中心、研究院和生產工廠，技術力量雄厚。
產品簡介
SI 500為研發和小批量生產應用提供先進的ICP刻蝕工藝，具備高度的靈活性和模塊化設計特點,可實現范圍廣泛的刻蝕工藝。包括刻蝕III-V化合物、II-VI化合物、介質、石英、玻璃、硅和硅化合物等。
SI 500C低溫ICP刻蝕機，可在-100℃左右的低溫下實現深硅刻蝕。優點是刻蝕后形成非常光滑的側壁，尤其在光學應用上非常重要。同時低溫刻蝕工藝的高刻蝕速率可實現刻穿樣片。
SI 591 采用模塊化設計、具有高度靈活性，適用于III-V 化合物、聚合物、金屬盒硅刻蝕工藝，可配置為單反反應腔系統、或帶預真空室或片盒站的多腔系統。特別適用于采用氟基氣體的工藝，具有很高的工藝穩定性和重復性。
型號
| SI 500 | ICP刻蝕機 | -30~+200℃ |
|
| SI 500C | 低溫ICP刻蝕機 | -150~+400℃ |
|
| SI 500-30 | ICP刻蝕機 | 帶預真空室 | 最大12寸晶圓 |
| SI 591 | 反應離子刻蝕機 | 帶預真空室 |
|
| Etchlab200 | 反應離子刻蝕機 | 不帶預真空室 |
|
| SI500-RIE | 反應離子刻蝕機 | 帶預真空室 | 帶氦氣背冷卻系統 |
具體型號及技術要求歡迎來電咨詢
中國代理
蘇州諾威特測控科技有限公司
Add：中國蘇州市高新技術開發區金楓南路198號
聯系人：鄒小姐
Tel:18913500435
E-mail:info@novtec.hk
http://www.novtec.hk
2060ICP
| ICP2060T電感耦合等離子體發射光譜儀特別適合用于測定各種石化產品中常量、微量、痕量元素的含量。 儀器擁有專業完善的油品直接進樣測量技術，可智能調節氧氣流量消除積碳影響，、抗干擾性強、自動化程度高、操作簡便、穩定、測試范圍廣、分析速度快、檢出限低等特點 性能特點 的油品直接進樣測量技術 智能調節氧氣流量，消除積碳影響 可測元素70多種 分析速度快，一分鐘可測5-8個元素 多元素同時分析，客戶可以自由選擇元素數量與安排測量順序 檢出限低，可達到ppb量級 線性動態范圍寬，高達6個數量級，高低含量可以同時測量 分析成本低，一瓶氬氣可以用10-12小時 氬氣消耗量低 氬氣總消耗量小于14L/min. 波長范圍寬 選擇3600條刻線光柵，波長范圍可達190nm-500nm 選擇2400條刻線光柵，波長范圍可達190nm-800nm 全自動化設計 自動化程度高，整臺儀器除了電源開關，儀器所有功能都是通過計算機控制，、安全、方便。 性能的增強有機進樣系統 天瑞特有的增強有機進樣系統，支持油品直接進樣測量，可針對不同種類的樣品智能精密調節氧氣流量，消除積碳影響，、穩定，滿足不同客戶的需求。 氣體流量自動控制 進樣系統中，載氣、等離子氣、輔氣、助燃氣全部采用的質量流量控制器（MFC）來控制，具有流量連續可調、流量穩定等優點，確保了進樣系統的穩定，為光源的穩定提供了堅強的保障。 蠕動泵 四通道全自動設計，轉速可根據流量需求調節設置，確保進樣系統穩定。 穩定的全固態射頻電源 儀器采用的射頻電源為天瑞儀器自主研發的全固態射頻電源，具有體積小、效率高、輸出功率穩定、帶有各種保護功能等諸多優點，進一步提高了儀器的穩定性與安全性。 快速的全自動匹配功能 負載終端采用天瑞儀器自主研發的全自動匹配技術，具有匹配速度快、精度高等優點，適合油品等復雜基體直接進樣；確保了輸出功率最大限度的加到了負載上面，提高電源的使用效率，從而提高儀器的穩定性，并使得整個點火過程方便簡單。 性能穩定的光學系統 光路系統精密恒溫，溫度穩定性±0.1°C；分光室采用二重防震設計，大幅提高了儀器的穩定性。 人性化的設計，使得檢測變得輕松、愜意 一鍵點火 配合天瑞的固態電源與自動匹配技術，ICP2060T的實現了一鍵點火功能。用戶只需點擊點火按鈕，儀器自動進行氣體吹掃、氣體流量檢查、點火、匹配等諸多動作，并將信息實時傳遞給客戶，讓客戶省心省事。 觀測高度調節自動化 可通過軟件調整炬焰的觀測高度減少基體效應，在的位置得到的測量效果。 強大的圖形診斷功能 強大的圖形診斷功能可以幫助客戶充分的了解當前儀器的工作狀態，并通過適當的參數設置來觀察不同條件下儀器的運行狀況，以把握的測量條件。 多元素自動測量 選擇需要測量的各個元素，設定好測量參數，一切交給儀器，直接得到所有元素的測量結果，簡單、省事。 強大的數據庫管理 擁有幾千條譜線，可以根據需要與愛好選擇適當的譜線，避開可能存在的干擾，為您提供更多的選擇，更合理的推薦，讓測試變得更加專業與。 軟件擁有自主知識產權，功能強大，操作人性化 ICP2060T 軟件功能強大，具有中英文自動切換功能，可進行定性、定量分析；有數據再處理功能；自動計算元素含量，自動生成測試報告；具有數據篩選功能，剔除不想要的數據；數據庫管理完善，可以自由保存與刪除。 測試完畢后可以生成檢測報告，檢測報告內容可以根據用戶需求選擇，包括方法名稱、儀器型號、元素、波長、強度、含量、相對標準偏差、單位、檢測員、備注、校正人等，同時分析結果可以保存為pdf、word、excel等文件，方便用戶分析。 軟件界面設計人性化，簡單明了，大大提高了分析效率。軟件主界面集成軟件的主要功能，包括控制等離子點火和滅火、儀器狀態、分析參數、分析譜線、波長譜圖顯示、曲線擬合、數據處理、歷史譜圖、歷史數據、用戶管理等諸多功能。 產品規格與技術指標 體積：臺式，放在桌面，1.5m×0.8m×0.8m 固態電源 工作頻率：27.12MHz 頻率穩定性：<0.05％ 匹配方式：自動匹配 輸出功率：800W ～1600W，連續可調，電源效率大于65% 輸出功率穩定性：≤0.2％ 輸出工作線圈內徑25mm、3匝，配三同心外徑20mm的石英炬管 同軸型霧化器外徑6mm 掃描分光器 光路：Czerny turner型 焦距：1000mm 光柵規格：離子刻蝕全息光柵，刻線密度3600L/mm或2400L/mm；刻劃面積（80×110）mm 分辨率：≤0.008nm（3600線光柵） ≤0.015nm（2400線光柵） 掃描波長范圍：3600線光柵：(190～500) nm；2400線光柵：(190～800) nm 電子測量及控制電路 光電倍增管規格：R212/R928 光電倍增管負高壓：（-50～-1000）V 光電倍增管電流測量范圍：（10-12～10-4）A 信號采集：VF轉換 計算機系統 主機：聯想品牌電腦 顯示器：17英寸液晶顯示器 打印機：Canon噴墨打印機 整機技術指標 掃描波長范圍：190nm～500nm（3600L/mm光柵），190nm～800nm（2400L/mm光柵） 測量范圍 含量：0.01ppm-幾千ppm； 重復性：（即短期穩定度）相對標準偏差RSD≤1.5％； 穩定性：相對標準偏差RSD≤2％； 測試速度：5-8元素/每分鐘 配置： 1、ICP2060T通信網線 2、氣管 3、交流參數穩壓器 4、氣體減壓閥 5、ICP2060T電源線 6、自動溫控冷卻循環水箱 7、接地銅板 8、水管 9、接地銅帶 10、炬管 11、進口霧化器 12、增強有機進樣系統 工作環境 貯存運輸溫度：15℃-25℃ 貯存運輸相對濕度：≤70％ 電源適應能力：220±10v 50-60Hz 工作濕度：≤70％ 工作溫度：15℃-30℃ 應用領域 測試原油中的30多種元素，主要有Fe、Na、Mg、Ni、V、Ca、Pb、Mo、Mn、Cr、Co、Ba、As等。 測定汽油中的鐵、錳、鉛、硅等； 潤滑油中添加劑、磨損元素的測定； 基礎油中多元素的測定； 甲醇中鈉元素的測定； 油田示蹤劑的測定等。 |
96T/48T大鼠一型C端前膠原(PICP)ELISA試劑盒特價供應，大鼠(PICP)ELISA試劑盒生產廠家
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