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化學機械拋光機(CMP)產品及廠家
GM401.110A102上海祥樹供應BAUMER拉繩編碼器歐洲進口
上海祥樹歐茂機電設備有限公司成立于1999年,經過多年的努力與良好的信譽度,公司與國際機電行業品牌twk、mts、hydac、masterk、weber、radio-energie、lenord bauer、elcis、ipf、hemomatik等千余家品牌廠商密切合作,形成了個穩定而高效的全球化國際供應鏈體系,竭盡全力為客戶提供服務。
更新時間:
2025-05-19
該公司產品分類:
上海祥樹歐茂機電設備有限公司
GNP POLI-PCB系列CMP
g&p旗下的gnp poli-pcb系列cmp主要運用于研發,操作簡單,成本低。
更新時間:
2025-03-05
該公司產品分類:
深圳市矢量科學儀器有限公司
TDP-1200/1200A雙面拋光機
雙面拋光機分為雙面機械拋光和雙面化學拋光兩種,分別代表雙面拋光的粗加工和精加工。主要用于晶片的表面拋光,操作簡單,搭配不同的夾具,拋光墊,拋光液可以實現不同材料,不同尺寸,不同厚度的晶片拋光。
更新時間:
2025-03-05
該公司產品分類:
深圳市矢量科學儀器有限公司
TPC-2110全自動CMP拋光機
全自動cmp拋光機是一款針對薄膜(介質層)的全自動拋光設備,操作便捷,兼容性強,通過更換拋光壓頭實現不同尺寸晶圓的兼容,采用自動化裝片方式,機械手自動取放片,同時搭配雙面pva滾刷進行在線刷洗功能,實現干進干出,用于氧化物、金屬、sti、soi、mems等產品的平坦化拋光,應用廣泛。
更新時間:
2025-03-05
該公司產品分類:
深圳市矢量科學儀器有限公司
TMP-150A/200ACMP拋光機
cmp拋光機是一款針對薄膜(介質層)的拋光設備,操作便捷,兼容性強,通過更換拋光壓頭實現不同尺寸晶圓的兼容,采用手動裝片方式,可配置半自動loading系統,氣囊薄膜柔性加壓,用于氧化物、金屬、sti、soi、mems等產品的平坦化拋光,應用廣泛。
更新時間:
2025-03-05
該公司產品分類:
深圳市矢量科學儀器有限公司
TMP-200S/300S半自動CMP拋光機
cmp拋光機是一款針對薄膜(介質層)的拋光設備,操作便捷,兼容性強,通過更換拋光壓頭實現不同尺寸晶圓的兼容,采用手動裝片方式,可配置半自動loading系統,氣囊薄膜柔性加壓,用于氧化物、金屬、sti、soi、mems等產品的平坦化拋光,應用廣泛。
更新時間:
2025-03-05
該公司產品分類:
深圳市矢量科學儀器有限公司
POLI-400Lcmp拋光機
poli-400lcmp拋光機是4&6英寸小型化學機械拋光機,采用手動裝片方式,氣囊薄膜柔性加壓,可配置摩擦力&溫度終點監控系統,用于氧化物、金屬、sti、soi、mems等產品的平坦化拋光,應用廣泛。
更新時間:
2025-03-05
該公司產品分類:
深圳市矢量科學儀器有限公司
POLI-500CMP拋光機
poli-500是小型8英寸cmp機臺,采用手動裝片方式,可選配半自動loading托盤,氣囊薄膜柔性加壓,可配置摩擦力&溫度終點監控系統,用于氧化物、金屬、sti、soi、mems等產品的平坦化拋光,應用廣泛。如有需要半導體設備和進口半導體設備的朋友歡迎電話咨詢我們!
更新時間:
2025-03-05
該公司產品分類:
深圳市矢量科學儀器有限公司
POLI-762CMP拋光機
poli-762是小型12英寸cmp機臺,采用手動裝片方式,可選配半自動loading托盤,氣囊薄膜柔性加壓,可配置摩擦力&溫度終點監控系統,用于氧化物、金屬、sti、soi、mems等產品的平坦化拋光,應用廣泛。
更新時間:
2025-03-05
該公司產品分類:
深圳市矢量科學儀器有限公司
GNP POLI系列CMP
gnp poli-762是高通用性12英寸(300mm) cmp工藝而開發,也為先進晶圓制造商和耗材供應商設計的。gnp poli-500廣泛用于耗材供應商,襯底制造商和芯片開發商的8“(200mm)高研發評估。gnp poli-400l是為先進的化學機械拋光工藝開發應用,如mems, as以及化學機械拋光特性研究。該系統擁有成本低,占地面積小。
更新時間:
2025-03-05
該公司產品分類:
深圳市矢量科學儀器有限公司
GNP CLEANER-812LCMP后清洗機
gnp cleaner-812l型cmp后清洗機集成了兩個雙刷站,設計緊湊,占地面積小,可清洗(8“~12")晶圓。
更新時間:
2025-03-05
該公司產品分類:
深圳市矢量科學儀器有限公司
GNP CLEANER-428LCMP后清洗機
gnp cleaner-428l型cmp后清洗機集成了兩個雙刷站,設計緊湊,占地面積小,可清洗(4“~8“)晶圓。
更新時間:
2025-03-05
該公司產品分類:
深圳市矢量科學儀器有限公司
GNP POLI-610CMP
gnp poli-610為藍寶石等復合晶圓的cmp工藝開發而設計。特別是該系統對于晶圓工藝開發具有較低的擁有成本,材料評估和生產運行。
更新時間:
2025-03-05
該公司產品分類:
深圳市矢量科學儀器有限公司
GNP GPC-300A全自動CMP晶圓清洗一體機
韓國g&p的全自動cmp晶圓清洗一體機是一臺可以自動拋光和清潔300毫米晶圓的機器。
更新時間:
2025-03-05
該公司產品分類:
深圳市矢量科學儀器有限公司
PG-2APG-2A 金相試樣拋光機
pg-2a金相試樣拋光機pg-2a金相試樣拋光機適用于對經磨光后的金屬材料進行拋光,可獲得光亮如鏡的金屬表面,供在顯微鏡下觀察與測定金相組織。pg-2a介紹pg-2a, 有焊接工作臺、工作
更新時間:
2025-01-03
該公司產品分類:
寧波旗辰儀器有限公司
P-2G金相柜式拋光機
p-2g金相柜式拋光機p-2g金相柜式拋光機拋盤直徑:φ200mm ,轉速:1400r/min或900r/min(可選)。簡介:p-2g是在p-2t金相試樣拋光機的基礎上作進一步的設計改進,由原立式結
更新時間:
2025-01-03
該公司產品分類:
寧波旗辰儀器有限公司
金相立式拋光機P-2
金相立式拋光機p-2金相立式拋光機p-2拋盤直徑:φ200mm,轉速:1400r/min或900r/min(可選)。p-2簡介:p-2是采集多方面使用人員的意見和要求設計而成的,它具有結構合理、傳動平
更新時間:
2025-01-03
該公司產品分類:
寧波旗辰儀器有限公司
LP-2立式雙盤金相試樣拋光機
lp-2立式雙盤金相試樣拋光機lp-2立式雙盤金相試樣拋光機是進行拋光工作的良好設備,本機轉動平穩,噪音小,操作輕便靈活,維護保養極為方便,符合廣大金相實驗室的需要。詳細介紹:在制備金相試樣過程中,拋
更新時間:
2025-01-03
該公司產品分類:
寧波旗辰儀器有限公司
P-1金相臺式拋光機
p-1金相臺式拋光機p-1金相臺式拋光機適用于對經磨光后的金屬材料進行拋光,可獲得光亮如鏡的金屬表面,供在顯微鏡下觀察與測定金相組織。p-1蔚儀技術參數 :拋盤直徑 φ200mm 轉速:1400r/m
更新時間:
2025-01-03
該公司產品分類:
寧波旗辰儀器有限公司
P-2T金相臺式拋光機
p-2t金相臺式拋光機p-2t金相臺式拋光機,可供兩人同時操作,本機轉動平穩,噪音小,用本機對試樣進行拋光可獲得光亮如鏡的表面,供在顯微鏡下觀察與測定金相組織。技術參數:電動機功率:180w拋盤直徑:
更新時間:
2025-01-02
該公司產品分類:
寧波旗辰儀器有限公司
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