一、HMDS真空烘箱HM技術(shù)參數(shù):電源電壓:AC 220V±10%/50Hz±2%
輸入功率:2500W
控溫范圍:RT+10℃-250℃
溫度分辨率:0.1℃
溫度波動度:±0.5℃
達(dá)到真空度:133Pa(1torr)
工作室尺寸(mm):450*450*450(可定做)
有可自動吸取添加HMDS功能,智能型的程式設(shè)定,一鍵完成作業(yè)。
二、HMDS預(yù)處理系統(tǒng)特點(diǎn):
1、預(yù)處理性能更好,由于是在經(jīng)過數(shù)次的氮?dú)庵脫Q再進(jìn)行的HMDS處理,所以不會有塵埃的干擾,再者,由于該系統(tǒng)是將"去水烘烤"和HMDS處理放在同一道工藝,同一個容器中進(jìn)行,晶片在容器里先經(jīng)過100℃-160℃的去水烘烤,再接著進(jìn)行HMDS處理,不需要從容器里傳出,而接觸到大氣,晶片吸收水分子的機(jī)會大大降低,所以有著更好的處理效果。
2、處理更加均勻,由于它是以蒸汽的形式涂布到晶片表面上,所以有液態(tài)涂布不可比擬更好的均勻性。
3、效率高,液態(tài)涂布是單片操作,而本系統(tǒng)一次可以處理多達(dá)4盒的晶片。
4、更加節(jié)省藥液,實(shí)踐證明,用液態(tài)HMDS涂布單片所用的藥液比用本系統(tǒng)處理4盒晶片所用藥液還多;
5、 更加環(huán)保和安全,HMDS是有毒化學(xué)藥品,人吸入后會出現(xiàn)反胃、嘔吐、腹痛、刺激胸部、呼吸道等,由于整個過程是在密閉的環(huán)境下完成的,所以不會有人接觸到藥液及其蒸汽,也就更加安全,它的尾氣是直接由機(jī)械泵抽到尾氣處理機(jī),所以也不會對環(huán)境造成污染。
6、低液報警裝置,當(dāng)HMDS液過低時發(fā)出報警及及時切斷工作起動功能;HMDS氣體密閉式自動吸取添加設(shè)計(jì),真空箱密封性能佳,確保HMDS氣體無外漏顧慮。
7、有可自動吸取添加HMDS功能,智能型的程式設(shè)定,一鍵完成作業(yè)。HMDS氣體密閉式自動吸取添加設(shè)計(jì),真空箱密封性能佳,確保HMDS氣體無外漏顧慮。
三、HMDS真空烘箱的原理:
HMDS預(yù)處理系統(tǒng)通過對烘箱預(yù)處理過程的工作溫度、處理時間、處理時保持時間等參數(shù)可以在硅片、基片表面均勻涂布一層HMDS,降低了HMDS處理后的硅片接觸角,降低了光刻膠的用量,提高光刻膠與硅片的黏附性。
四、HMDS預(yù)處理系統(tǒng)的必要性:
在半導(dǎo)體生產(chǎn)工藝中,光刻是集成電路圖形轉(zhuǎn)移重要的一個工藝環(huán)節(jié),涂膠質(zhì)量直接影響到光刻的質(zhì)量,涂膠工藝也顯得尤為重要。光刻涂膠工藝中絕大多數(shù)光刻膠是疏水的,而硅片表面的羥基和殘留的水分子是親水的,這造成光刻膠和硅片的黏合性較差,尤其是正膠,顯影時顯影液會侵入光刻膠和硅片的連接處,容易造成漂條、浮膠等,導(dǎo)致光刻圖形轉(zhuǎn)移的失敗,同時濕法腐蝕容易發(fā)生側(cè)向腐蝕。增黏劑HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善這種狀況。將HMDS涂到硅片表面后,經(jīng)烘箱加溫可反應(yīng)生成以硅氧烷為主體的化合物。它成功地將硅片表面由親水變?yōu)槭杷涫杷珊芎玫嘏c光刻膠結(jié)合,起著偶聯(lián)劑的作用。
關(guān)鍵詞:
HMDS真空烘箱
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主要業(yè)務(wù)項(xiàng)目有HMDS預(yù)處理系統(tǒng),HMDS烘箱,無氧化烘箱,真空無氧烤箱,氮?dú)夂嫦洌瑵崈艨鞠洌瑹o氧烤箱,無塵無氧固化烤箱,高精度加熱臺,精密恒溫?zé)岚澹琇ED烤箱,PI/CPI/BCB/PBO/LCP固化烤箱,半導(dǎo)體工藝設(shè)備。黑蒜加工設(shè)備,黑蒜發(fā)酵設(shè)備,超低溫試驗(yàn)箱,超低溫沖擊試驗(yàn)箱,-150度高低溫試驗(yàn)箱,恒溫恒濕試驗(yàn)箱,真空烘箱,熱風(fēng)真空烤箱,環(huán)境檢測儀器,實(shí)驗(yàn)室研究儀器,橡塑檢測儀器,電纜檢測儀器設(shè)備等。