實驗室HMDS專用烘箱 小型HMDS處理烤箱的重要作用
晶片產品的表面通常是親水的,因為從環境濕度中吸附了一層水。為了使光刻膠具有適當的附著力,需要使表面更具疏水性,以更好地與光刻膠的化學性質相匹配。
1. 解決光刻膠附著力不足問題
產品表面的自然氧化層:暴露在空氣中的硅片會形成約 1-2nm 厚的 SiO?層,其表面富含羥基(-OH),具有強親水性。而光刻膠(尤其是化學增幅型光刻膠)多為疏水性樹脂,直接旋涂時會因表面能不匹配導致 “去濕”(dewetting)現象,形成針孔或島狀缺陷。
HMDS 的改善效果:通過表面硅烷化處理,使硅片表面接觸角從~40° 提升至65°-80°(接近光刻膠的接觸角),確保光刻膠均勻鋪展并形成連續膜層。實驗表明,使用 HMDS 后,光刻膠的附著力可提高 3-5 倍,在后續顯影、刻蝕過程中不易脫落
2. 增強光刻圖形的完整性
細線條工藝中的關鍵作用:在 28nm 以下工藝節點,光刻膠線條寬度減小至亞微米級,邊緣應力集中效應加劇,若無 HMDS 處理,顯影時極易發生線條坍塌(Line Collapse)。例如,在 193nm 浸沒式光刻中,使用 HMDS 可使 50nm 線寬的抗坍塌能力提升 20%。
深孔 / 溝槽結構的填充優化:對于 3D NAND 等具有高深寬比(>20:1)結構的器件,HMDS 可降低光刻膠在孔底的接觸角,避免填充空洞(Void)形成,提高圖形轉移質量。
實驗室HMDS專用烘箱 小型HMDS處理烤箱的主要功能
HMDS 涂覆:采用蒸汽涂覆(Vapor Prime)將 HMDS 均勻覆蓋在產品表面;
烘烤固化:通常在 100-150°C 下烘烤 60-500 秒,促進化學反應完全進行。
容積:300×300×300可定制(mm)(2-12寸產品兼容)
材質:外箱采用優質不銹鋼制作,內箱采用 316L 醫用級不銹鋼
溫度范圍:RT+20-200℃
真空度:≤1torr
自動化:彩色觸摸屏人機交互,一鍵運行
HMDS控制:可控制HMDS 藥液添加量
真空泵:無油渦旋真空泵
HMDS烤箱選配功能:
HMDS藥液泄漏報警提示功能
HMDS低液位報警提示功能
工藝數據記錄功能
程序鎖定保護等功能

關鍵詞:
HMDS HMDS烘箱 HMDS烤箱
上海雋思實驗儀器有限公司主要生產HMDS預處理系統,HMDS烤箱,潔凈烤箱,無氧烤箱,無塵無氧固化烤箱,LED烤箱,UV固化烤箱,隧道烘箱,黑蒜發酵設備、橡塑檢測設備、電線電纜檢測設備、半導體設備及實驗室儀器的高新技術型企業,具有很強的自主開發、設計能力,服務于電子、電力、通訊、環保、農業,建筑,節能、航空航天等行業;多年來,公司以“真摯的服務、的品質”為宗旨,為國內外廣大用戶提供了周到的售、售中、售后服務。贏得了國內外客戶的一致好評,更為我們業務的快速發展奠定了一定的基礎。我們的服務也更精益求精,更完善!能夠完成儀器儀表工程產品配套和維修服務!
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