德國(guó)Allresist 正電子束光刻膠 AR-P 610系列

描述

-電子束，深紫外光（248nm）

-高分辨率，高對(duì)比度

-對(duì)玻璃、硅和金屬有很強(qiáng)的附著力

-比PMMA敏感3-4倍

-敏感性可以通過(guò)軟烤調(diào)整

-用于平面化和多層工藝

-溫度穩(wěn)定，可達(dá)240℃

-以甲基丙烯酸甲酯為基礎(chǔ)的共聚物

甲基丙烯酸，安全溶劑1-甲氧基-2-丙醇

工藝條件

   該圖顯示了AR-P 610系列電阻的典型工藝步驟。所有規(guī)范都是指導(dǎo)原則必須適應(yīng)自身具體情況的價(jià)值觀。For 進(jìn)一步 信息 processing, ? “Detailed 電子束電阻的佳處理說(shuō)明"。For 建議 廢水 處理 和 general 安全 instructions, ? ”General 產(chǎn)品 信息 Allresist 電子束 resists”.

Processing instructions

    抗蝕劑的敏感性隨軟烤溫度的升高而增加，這是因?yàn)榭刮g劑的形成更加強(qiáng)烈下 的 甲基 丙烯酸 酐 的 分離 水 （? 圖 劑量 與 softbake temperature）.AR-P 617,因此，在200℃回火比在180℃回火大約敏感20%。劑量可以是對(duì)兩層AR-P 617系統(tǒng)進(jìn)行相應(yīng)的調(diào)整，對(duì)于兩層系統(tǒng)具有重要意義。在這種情況下,先，底層在200℃下干燥，然后在180℃與上層膜一起回火。由于差異化的過(guò)程，較低的層次被開(kāi)發(fā)人員更快地攻擊，并明顯削弱結(jié)構(gòu)形成（起飛）。這些起飛結(jié)構(gòu)也可以由雙層系統(tǒng)PMMA/共聚物。先在190℃下對(duì)ar - p617進(jìn)行涂層回火處理，然后對(duì)其進(jìn)行PMMA抗AR-P 679.03紡絲涂膜，150℃烘干。曝光后，兩層都是一步顯影，如AR 600-56處理瓶塞AR 600-60并沖洗。

剝離結(jié)構(gòu)為ar - p617兩層側(cè)切結(jié)構(gòu)， 采用PMMA/共聚物

經(jīng)過(guò)AR 600-50的開(kāi)發(fā)                                                開(kāi)發(fā)后的PMMA/共聚物雙層體系

底部:AR-P 617.06, 400納米厚，200℃回火                  底部:AR-P 617.06, 400納米厚，在190℃回火                                           

頂部:AR-P 617.06, 500納米厚，180℃回火                   頂部:AR-P 679.06, 180納米厚，150℃回火

    由甲基丙烯酸甲酯和甲基丙烯酸組成的共聚物與純PMMA產(chǎn)品相比，在熱載荷作用下能形成6環(huán)。在這種情況下，兩個(gè)甲基丙烯酸基團(tuán)必須相鄰排列在聚合物鏈上（見(jiàn)大的結(jié)構(gòu)式左），這在統(tǒng)計(jì)學(xué)上發(fā)生足夠高混合比例為2:1時(shí)的頻率（見(jiàn)右上方分子式）。在這個(gè)溫度下反應(yīng)是可能的，因?yàn)樵诜磻?yīng)過(guò)程中產(chǎn)生的水是非常好的離開(kāi)組織。

   The 6-ring 形成 分裂 比 脂肪 鏈 更 容易 在 與 電子 輻照 remainder 導(dǎo)致 copolymer. 的 靈敏度 越 高一旦調(diào)整，靈敏度將保持不變。逆開(kāi)環(huán)反應(yīng)是不可能的。

  由于其優(yōu)異的涂層性能，使其成為可能存在 的 水平 出 拓?fù)?wafer 發(fā)展 之在這個(gè)例子中，200納米高氧化層結(jié)構(gòu)采用AR-P 617.08涂層的薄膜厚度為780納米。曝光后（20kv）和開(kāi)發(fā)（AR 600- 50,2分鐘），晶圓片結(jié)構(gòu)被完全平面的抗蝕劑線覆蓋。